窒化ケイ素

 

窒化ケイ素は、優れた強度と熱衝撃に対する耐性を備えた高温構造用セラミックです。また、光学コーティング、絶縁層、拡散バリアなどの用途の電子薄膜材料としても使用できます。窒化ケイ素（Si）₃N₄）材料特性の優れた組み合わせが特徴です。炭化ケイ素 (SiC) とほぼ同じ軽さですが、その微細構造により優れた耐熱衝撃性が得られ、高い破壊靱性により衝撃や衝撃に耐性があります。

 

 

 

	ユニット	SN1000	SN2000 (英語)	SN3000	SN4000
熱伝導率 @ 20 度	W/mK	25	24	25	28
熱衝撃パラメータ R1	K	558	748	590-620	700
熱衝撃パラメータ R2	W/m	14	18	15	19
CTE1 25度 ➞ 250度	10-6/K	1.9	1.9	1.9	1.9
CTE1 25度 ➞ 1000度	10-6/K	3.2	3.2	3.2	3.2
最高温度 (不活性) 2	程度	1400	1400	1400	1400
最高温度（酸化）2	程度	1200	1200	1200	1200

 

窒化ケイ素（Si3N4）の特性

非常に低い密度 (3.21 g/cm³)

非常に高い破壊靱性 (7 MPam)^1/2)

良好な曲げ強度（850MPa）

非常に優れた耐熱衝撃性: 高い熱応力パラメーター (569 K)

酸化性雰囲気での最高使用温度：1,300度

中性雰囲気での最高使用温度：1,600度

 

 

 

 

Q: サンプル料金はどのように請求されますか?
A: 当社の在庫からサンプルが必要な場合は、無料で提供できますが、無料料金はお客様のご負担となります。特別なサイズが必要な場合は、サンプル作成料金を請求させていただきますが、ご注文時に返金されます。
Q:生産の納期はどれくらいですか?
A: 在庫がある場合は、1-7 日でお届けできます。在庫がない場合は、数量に応じて 5-30 日かかります。

 

Q: あなたの利点は何ですか?

A：私たちは独自の工場、素敵な従業員、そして専門的な生産、加工、販売チームを持っています。品質は保証できます。私たちは冶金製鋼分野で豊富な経験を持っています。

Q：価格交渉は可能ですか？

A: はい、ご質問がございましたら、いつでもお気軽にお問い合わせください。そして市場拡大を目指すクライアント様には全力でサポートさせていただきます。

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